【展会预告】广明源邀您共赴2026深圳全触与显示展，解锁172nm准分子技术

2026 年 10 月 27–29 日，广明源将亮相深圳国际全触与显示展（展位 16C10），携 172nm 准分子光源、MINI 实验模组、晶圆光清洗模组、高能紫外仪等系列产品与整套解决方案参展。依托高光效、冷处理、无热损伤的 172nm 准分子技术，可实现纳米级有机污染物去除，服务显示面板、触控模组、半导体精密制造等场景；展会现场可一对一技术交流、产品体验，携手客户探索光清洗、光改性工艺新方向。

172nm准分子光：牙科种植体表面活化的国产新方案

展会首日直击｜广明源172nm准分子解决方案，赋能半导体精密制造

9 月 9 日，第27届中国国际光电博览会（CIOE）、国际集成电路创新博览会（IICIE）、elexcon深圳国际电子展暨嵌入式展三展联动，在深圳国际会展中心盛大启幕。广明源亮相14C108 展位，带来 172nm 准分子系列及 RTP 系统解决方案，诚邀各界同仁莅临展位交流合作，共探光电技术国产化创新路径。

展会邀约 | 广明源携172nm准分子解决方案，亮相第27届中国光博览会&国际集成电路创新博览会

2026年9月9-11日，广明源将携172nm准分子系列产品及光科技解决方案，在深圳国际会展中心（宝安）14C108展位重磅亮相。诚邀各界合作伙伴、行业专家莅临参观指导，共同探讨光科技在半导体、光电显示、纯水处理等领域的创新应用！

172nm准分子光清洗实验：纳米级去污与表面亲水活化

针对高端制造传统湿法清洗易留化学残留、损伤精密器件，且纳米级有机污染难以清理的痛点，172nm准分子干式清洗技术可有效破解难题。该真空紫外光能量高，可直接断裂有机物分子键，同时激发空气产生活性氧，通过光化学反应彻底分解单分子级有机污染物，实现原子级洁净度。其还能对材料表面亲水活化，大幅降低水滴接触角，提升基材附着力。该技术适配半导体、光电显示、精密材料、医疗部件等多类高端场景，国产广明源可提供全链路解决方案，助力企业降本增效、实现工艺升级。